Dengan
diberlakukannya sanksi dagang, perusahaan-perusahaan teknologi AS dilarang
berbisnis dengan perusahaan asal China, termasuk untuk pengiriman chip AI. Foto/ABC.net
POSSINDO.COM, Ragam - Di tengah sanksi ketat dari Amerika Serikat yang membatasi akses ke teknologi semikonduktor canggih, China justru digadang-gadang mencetak tonggak penting dalam industri chip global.
Perusahaan manufaktur chip terbesar di China, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), dilaporkan berhasil memproduksi chip canggih dengan fabrikasi 5 nanometer (nm) tanpa menggunakan mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV) buatan Belanda.
Untuk diketahui, selama ini, mesin EUV dianggap sebagai mesin wajib dalam pembuatan chip sekelas ini.
Menurut laporan GizmoChina, keberhasilan China dicapai lewat pendekatan teknis yang berbeda dan jauh lebih kompleks, yakni menggunakan teknologi litografi lama berbasis deep ultraviolet (DUV) yang dipadukan dengan metode yang dinamakan Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP).
Pendekatan ini lebih disebut rumit, mahal, dan rawan kesalahan, namun terbukti bisa menghasilkan chip 5nm yang fungsional.
Teknologi DUV (Deep Ultraviolet) dan EUV (Extreme Ultraviolet) adalah dua jenis teknologi litografi berbasis cahaya yang digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor untuk mencetak pola sirkuit rumit pada wafer silikon.
Perbedaan utamanya terletak pada panjang gelombang cahaya yang digunakan dan tingkat ketelitian hasil cetakannya.
DUV memanfaatkan cahaya dengan panjang gelombang lebih tinggi (sekitar 193 nanometer), sedangkan EUV menggunakan panjang gelombang cahaya yang lebih pendek (sekitar 13,5 nanometer).
Karena itu, EUV mampu mencetak fitur yang lebih halus dan ukuran chip yang lebih kecil dibandingkan DUV, sehingga memungkinkan miniaturisasi perangkat yang lebih ekstrem.
Sumber : kompas.com